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CVD缺陷生長(zhǎng)二維層

簡(jiǎn)要描述：Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses.

  • 產(chǎn)品型號(hào)：
  • 廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間：2024-06-03
  • 訪  問(wèn)  量：1051

詳細(xì)介紹

Newly acquired ion implantation accelerator unit allows 2Dsemiconductors USA to create desired amounts of defects by alpha particle irradiation process at select amount of doses. Please contact us for details and pricing.

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